ラミネーション工程においては、分や度といった数値が直接、製品の品質に影響します。EVAやSGPといった中間層をガラスの間に押し込む際には、残留した水分や空気を迅速に除去する必要があります。その際、熱点ができたり、熱ショックが起きたり、全体の処理が遅れたりしてはいけません。
対流式オーブンでは処理時間が長くなり、平面性を保つのが難しくなります。一方、適切に行えば、赤外線乾燥によって処理時間が短縮され、再現性が向上し、滅菌処理までパウチの形状が維持されます。
重要なのは、波長と出力をガラスや中間層に合わせることです。当社のラミネートガラス用赤外線乾燥装置は、短波長のクォーツエミッターを使用し、表面から迅速に加熱します。この光はラミネート層の内部に浸透し、端の部分を損なうことなく水分を除去します。
出力密度はラインの速度に合わせて調整されているため、多くのEVA製品でも3～6m/分の速度で処理でき、端のシール性が損なわれることはありません。制御も厳密に行われ、出力の安定度は±1％以内で、迅速な応答が可能です。また、均一な温度分布により、熱ストレスが軽減され、光学性能が保持されます。
さらに、既存のラミネーションプレスや予熱装置に簡単に取り付けることができます。OEM製の赤外線装置を交換する必要もなく、配線や設計の変更も不要です。これにより、作業の開始が早くなり、処理時間も短縮され、泡や曇りの発生も少なくなります。
必要な時だけ加熱するため、エネルギー消費も削減されます。また、エミッターは5,000時間以上使用してもほとんど性能が低下しません。
注意すべき点としては、ガラスの放射率はコーティングや色によって変わるため、具体的な状況に合わせてアレイや出力設定を調整する必要があります。透明なフロートガラス、低反射ガラス、サンシェードガラスなど、それぞれ異なる設定が必要です。
設置も簡単で、標準的な接続部品を使用し、既存の反射器や固定具とも互換性があります。清潔な電力供給を確保し、雰囲気を管理し、定期的にエミッターの点検を行えば、ラインは安定して稼働し続けます。